重磅！我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构；这个领域，我国也实现新突破
据央视新闻9月15日报道，14日晚，国际顶级学术期刊《自然》发表了中国科学家在下一代光电芯片制造领域取得的重大突破南京大学张勇，肖敏，朱世宁领导的研究团队发明了非互易飞秒激光极化铁电畴新技术，将飞秒脉冲激光聚焦在材料铌酸锂的晶体内部通过控制激光运动的方向，在晶体中形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除这项新技术突破了传统飞秒激光的光衍射极限，首次将光雕刻的铌酸锂三维结构尺寸从传统的1微米级缩小到纳米级，达到30纳米，大大提高了加工精度
这项重要的发明可能会为未来的光电子芯片制造开辟一条新的轨道有望用于制作关键的光电器件，如光电调制器，声滤波器，非易失性铁电存储器等在5G/6G通信，光计算，人工智能等领域具有广阔的应用前景
与此同时，中国科学家在量子模拟领域取得了新的突破，昨晚，国际学术期刊《自然》在线发表了中国科学家在量子模拟前沿领域的新突破南京大学缪峰的合作团队通过在原子世界中搭积木，以180 +0.75度的特殊角度叠加两层石墨烯双原子层，并施加垂直电场，开发出一种全新的量子材料通过改变垂直电场，在国际物理学界首次观测到量子熔化的中间态，揭示了这种量子中间态的演化机制
这一重要理论机制的创新有望在未来用于开发高密度集成，高度可调，易读的固体量子模拟器，例如通过模拟生物神经网络，化学反应系统等复杂系统的演化，以及用于类脑人工智能技术的发展和新药研发。
综合央视新闻全国商报
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